Donahue, Mary:
Nitric oxide an pH measurement with AlGaN/GaN based ISFETs
Ilmenau, 2016
2016DissertationOA Bronze
Technische Universität Ilmenau (1992-) » Fakultät für Mathematik und Naturwissenschaften (1992-) » Institut für Chemie und Biotechnik (2011-) » Fachgebiet Nanobiosystemtechnik (2010-)
Titel in Englisch:
Nitric oxide an pH measurement with AlGaN/GaN based ISFETs
Autor*in:
Donahue, Mary
GND
1108317022
ORCID
0000-0002-9158-4026ORCID iD
Akademische*r Betreuer*in:
Schober, AndreasTU
GND
172745616
ORCID
0000-0002-1818-4878ORCID iD
SCOPUS
56107606100
SCOPUS
58686545400
SCOPUS
58888586900
SCOPUS
7005223351
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
;
Töpfer, HannesTU
GND
139255710
ORCID
0000-0001-9665-7661ORCID iD
ResearcherID
O-3775-2018
SCOPUS
7003682376
Sonstiges
der Hochschule zugeordnet
;
Gale, Richard
Gradverleihende Einrichtung:
Technische Universität Ilmenau
GND
2125187-3
Erscheinungsort:
Ilmenau
Erscheinungsjahr:
2016
Open-Access-Publikationsweg:
OA Bronze
Umfang:
VI, 127 Seiten
PPN:
Anmerkung:
Dissertation, Technische Universität Ilmenau, 2016
Sprache des Textes:
Englisch
Schlagwort, Thema:
Ionensensitiver Feldeffekttransistor » Polyimide » Gassensor
Datenträgertyp:
Online-Ressource
Ressourcentyp:
Text
Lizenztyp:
Alle Rechte vorbehalten
Access Rights:
Open Access
Teil der Statistik:
Ja

Abstract in Deutsch:

Diese Arbeit befasst sich mit der Optimierung von Aluminium-Gallium-Nitrid/Gallium-Nitrid (AlGaN/GaN) -Ionen-sensitiven-Feldeffekttransistoren (ISFETs), einschließlich der zur Prozessierung notwendigen Materialparameter, so wie die Implementierung dieser optimierten Sensoren zur Detektion von Stichstoffmonoxid (NO), im Speziellen für biologische Anwendungen. Durch den angestrebten Einsatz der Transistoren in Flüssigkeiten werden an die chemische und mechanische Stabilität der Passivierung hohe Anforderungen gestellt. Im Vergleich mit den bekannten 'harten' Passivierungsmaterialien wie Si3N4 oder SiO2 konnte gezeigt werden, dass Polyimid die besten Isolationseigenschaften aufweist. Um Polyimid als Passivierung einzusetzen, musste aber ein neuartiger ECR (Electron Cyclotron Resonance) Plasmaprozess entwickelt werden, der einerseits die AlGaN/GaN-Elemente strukturiert und gleichzeitig den aktiven Sensorbereich schützt. Dabei handelt es sich um das sogenannte zweidimensionale Elektronengas (2DEG), das sich spontan zwischen der AlGaN- und GaN-Schicht ausbildet. Der ECR Plasmaschritt ermöglicht das notwendige anisotrope Ätzen zur Isolierung der ISFETs gegeneinander ohne eine messbare Degeneration des 2DEG. Dieser Prozess hinterlässt eine kontaminationsfreie Oberfläche und somit sofort messbare ISFETs, was vorher benötigte Reinigungsschritte überflüssig macht. Um die Detektion von NO zu erlauben, wurde eine Reihe neuer technologischer Prozesse entwickelt, wie etwa die entsprechende Gate-Funktionalisierung der AlGaN/GaN-ISFETs. Wolframtrioxid und Graphen stellten sich bei der vollständigen Analyse des Sensorverhaltens als die Besten der untersuchten Funktionalisierungen heraus. Beim Nachweis der NO-Sensitivität gegenüber bekannten störenden Substanzen, konnte über die Verringerung der pH-Sensitivität des funktionalisierten Transistors, eine gleichzeitige Messung des pH-Wertes und NO durchgeführt werden. Mit Hilfe von L929-Zellen (Maus-Fibroblasten) wurden darüber hinaus die ersten Tests zur Biokompatibilität des Systems durchgeführt. Um die Genauigkeit für in vitro Zellkulturen oder Gewebe-basierte Experimente zu erhöhen, wurde ein miniaturisiertes AlGaN/GaN-ISFET-Array entwickelt, mit einer Miniaturisierung und einem Pitch von 10 mm x 10 mm bzw. 100 mm x 100 mm. Mit einzelnen Sensoren wie auch den miniaturisierten Arrays kann eine Sensitivität von bis zu 57.0 mV/pH (nahe am theoretischen Nernst'schen Verhalten mit 58.2 mV/pH bei 20 °C) erreicht werden. Die Kombination von miniaturisierten Arrays und der Verringerung der pH-Sensitivität könnte in zukünftigen Arbeiten eine simultane NO- sowie pH-Messung auf einem Chip über einen lokalen Gradienten physiologischer Anwendungen ermöglichen.